Detaillierte Informationen

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Betriebsstunden
Einschaltstunden
Zustand gut
CE-Norm ---------
Status zu besichtigen

Beschreibung

RTP ANNEALSYS AS-Mikroofen von 2017 + Pumpe + Computer

Perfekter Zustand. Datum 2017.
Geliefert mit:
- Agilent IDP3A01 Vakuumpumpe und Evakuierungspumpe
- Computer, Software und Benutzercode steuern.
- Handbuch



Der AS-Micro ist ein kompakter thermischer 3-Zoll-Tischprozessor mit Vakuumfähigkeit für Forschungsanwendungen. Es kann Substrate von wenigen Quadratmillimetern bis zu 3 Zoll Durchmesser oder Quadrat verarbeiten. Optionale Suszeptoren sind erhältlich, um kleine Proben aufzunehmen und Substrate mit geringer Infrarotabsorption zu verarbeiten.

Die Quarzrohr-Prozesskammer mit Edelstahlflanschen und ein Rohrofen mit Infrarot-Halogenlampen ermöglichen die Verarbeitung bis zu 1250 °C mit sehr schnellen Anstiegsraten (> 250 °C/s). Der hochmoderne Temperaturregler sorgt für eine präzise Temperaturregelung.

Horizontale Bewegungstür mit Quarzschale bietet einfachen Zugang zum Be- und Entladen von Wafern und zur Installation von Thermoelementen.

Merkmale
Der Ofen bietet die höchste Anstiegsrate von bis zu 250 °C/s für 2-Zoll-Wafer.
Temperaturbereich: RT bis 1250°C
Anstiegsrate bis zu 250 °C/s auf Siliziumsubstrat mit 2 Zoll Durchmesser, 200 °C/s auf 3 Zoll Substrat.
Gasmischfähigkeit mit Massendurchflussreglern
Vakuumbereich: atm bis 10-2 Torr (10-6 Torr mit optionaler Turbopumpe)
Thermoelement-Temperaturregelung mit schnellem digitalen PID-Temperaturregler
Vollständige PC-Steuerung mit Windows-kompatibler Software

für Elektrochemie und Nanomaterialien Halbleiter- / Halbleiter- / Waferlabor

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.


Art von Kunde Händler
1. Registrierung 2015
Online Angeboten 61
Letzte log in 13. Juni 2024

Beschreibung

RTP ANNEALSYS AS-Mikroofen von 2017 + Pumpe + Computer

Perfekter Zustand. Datum 2017.
Geliefert mit:
- Agilent IDP3A01 Vakuumpumpe und Evakuierungspumpe
- Computer, Software und Benutzercode steuern.
- Handbuch



Der AS-Micro ist ein kompakter thermischer 3-Zoll-Tischprozessor mit Vakuumfähigkeit für Forschungsanwendungen. Es kann Substrate von wenigen Quadratmillimetern bis zu 3 Zoll Durchmesser oder Quadrat verarbeiten. Optionale Suszeptoren sind erhältlich, um kleine Proben aufzunehmen und Substrate mit geringer Infrarotabsorption zu verarbeiten.

Die Quarzrohr-Prozesskammer mit Edelstahlflanschen und ein Rohrofen mit Infrarot-Halogenlampen ermöglichen die Verarbeitung bis zu 1250 °C mit sehr schnellen Anstiegsraten (> 250 °C/s). Der hochmoderne Temperaturregler sorgt für eine präzise Temperaturregelung.

Horizontale Bewegungstür mit Quarzschale bietet einfachen Zugang zum Be- und Entladen von Wafern und zur Installation von Thermoelementen.

Merkmale
Der Ofen bietet die höchste Anstiegsrate von bis zu 250 °C/s für 2-Zoll-Wafer.
Temperaturbereich: RT bis 1250°C
Anstiegsrate bis zu 250 °C/s auf Siliziumsubstrat mit 2 Zoll Durchmesser, 200 °C/s auf 3 Zoll Substrat.
Gasmischfähigkeit mit Massendurchflussreglern
Vakuumbereich: atm bis 10-2 Torr (10-6 Torr mit optionaler Turbopumpe)
Thermoelement-Temperaturregelung mit schnellem digitalen PID-Temperaturregler
Vollständige PC-Steuerung mit Windows-kompatibler Software

für Elektrochemie und Nanomaterialien Halbleiter- / Halbleiter- / Waferlabor

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Einschaltstunden
Zustand gut
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Bezüglich der/die Besitzer /in

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Letzte log in 13. Juni 2024

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