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ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine

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Detaillierte Informationen

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Betriebsstunden
Einschaltstunden
zustand gut
CE-Norm ---------
Status zu besichtigen

Beschreibung

Titel des Angebots: ANNEALSYS AS-Micro-Halbleiter-Maschine

Hersteller: ANNEALSYS
Modell: AS-Micro
Herstellungsjahr: 2017
Technischer Zustand: Gut
Zustand: Sichtbar

Beschreibung:
Der AS-Micro ist ein kompakter, vakuumfähiger Drei-Zoll-Tisch-Thermoprozessor, der für Forschungsanwendungen entwickelt wurde. Er ist in der Lage, Substrate von einigen Quadratmillimetern bis zu 3 Zoll im Durchmesser oder im Quadrat zu bearbeiten.

Im Lieferumfang des Geräts enthalten:
- Agilent IDP3A01 Vakuumpumpe und Evakuierungspumpe
- Steuercomputer mit Software und Benutzercode
- Handbuch

Hauptmerkmale:
- Der Ofen bietet die höchste Rampenrate von bis zu 250°C/s für 2"-Wafer
- Temperaturbereich: RT bis 1250°C
- Rampenrate von bis zu 250°C/s bei Siliziumsubstraten mit einem Durchmesser von 2 Zoll, 200°C/s bei 3-Zoll-Substraten
- Möglichkeit der Gasmischung mit Massendurchflussreglern
- Vakuumbereich: Atm bis 10-2 Torr (10-6 Torr mit optionaler Turbopumpe)
- Thermoelement-Temperaturregelung mit schnellem digitalen PID-Temperaturregler
- Vollständige PC-Steuerung mit Windows-kompatibler Software für Elektrochemie und Nanomaterialien im Halbleiter-/Wafer-Labor

Das AS-Micro wird in einwandfreiem Zustand geliefert und ist sofort für den Einsatz in der Forschung bereit.

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.


Art von Kunde Händler
1. Registrierung 2015
Online Angeboten 25
Letzte log in 19. Mai 2025

Beschreibung

Titel des Angebots: ANNEALSYS AS-Micro-Halbleiter-Maschine

Hersteller: ANNEALSYS
Modell: AS-Micro
Herstellungsjahr: 2017
Technischer Zustand: Gut
Zustand: Sichtbar

Beschreibung:
Der AS-Micro ist ein kompakter, vakuumfähiger Drei-Zoll-Tisch-Thermoprozessor, der für Forschungsanwendungen entwickelt wurde. Er ist in der Lage, Substrate von einigen Quadratmillimetern bis zu 3 Zoll im Durchmesser oder im Quadrat zu bearbeiten.

Im Lieferumfang des Geräts enthalten:
- Agilent IDP3A01 Vakuumpumpe und Evakuierungspumpe
- Steuercomputer mit Software und Benutzercode
- Handbuch

Hauptmerkmale:
- Der Ofen bietet die höchste Rampenrate von bis zu 250°C/s für 2"-Wafer
- Temperaturbereich: RT bis 1250°C
- Rampenrate von bis zu 250°C/s bei Siliziumsubstraten mit einem Durchmesser von 2 Zoll, 200°C/s bei 3-Zoll-Substraten
- Möglichkeit der Gasmischung mit Massendurchflussreglern
- Vakuumbereich: Atm bis 10-2 Torr (10-6 Torr mit optionaler Turbopumpe)
- Thermoelement-Temperaturregelung mit schnellem digitalen PID-Temperaturregler
- Vollständige PC-Steuerung mit Windows-kompatibler Software für Elektrochemie und Nanomaterialien im Halbleiter-/Wafer-Labor

Das AS-Micro wird in einwandfreiem Zustand geliefert und ist sofort für den Einsatz in der Forschung bereit.

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Detaillierte Informationen

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zustand gut
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Status zu besichtigen

Bezüglich der/die Besitzer /in

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