21 - 40 von 46 Ergebnissen
Baujahr:
Halbautomatisches Karl Suss PA-200-Sondensystem mit Karl Suss PH250HF-Sonden-XYZ-Kopf und -Arm sowie anderem Zubehör Karl Suss PA 200 mit Antivibrationstisch, einschließlich 3 Einheiten manueller Karl Suss-Hochfrequenz-Probenköpfe (PH250HF) mit Sondenarm und Sondenkopf sowie 1 Ersatzeinheit XYZ Edmund Optic Micro Positioners. BESCHREIBUNG Das SÜSS PA200 Semiautomatic Probe System ist ein sehr stabiles, modulares und flexibles Sondensystem für Wafer und Substrate bis 200 mm …Baujahr:
Der RA 120M ermöglicht das Ritzen von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll (102 mm) und Substraten mit einer Größe von bis zu 4 Zoll (102 mm) im Quadrat. Zwei unabhängige Ritzachsen sind für maximale Vielseitigkeit separat programmierbar. Die Parameter können entweder in Mikron oder in Mils eingegeben werden. (Der Zoll- oder metrische Modus wird vor dem …Baujahr:
KARL SUSS MASKE ALIGNER MA56 Beschreibung: Der MA 56 von Karl Suss ist ein Maskenausrichtungs- und Belichtungssystem, das hochgradig ökologische Produktionsmöglichkeiten für Wafer bis zu 125 mm bietet. Er ist einfach zu warten und kann leicht an Ihre speziellen Prozessanforderungen angepasst werden.Baujahr:
Karl Suss/CASCADE MICROTECH PA-200HS Halbautomatisches Sondensystem mit komplettem Zubehör (optionales Upgrade für Temperaturmessung verfügbar) Cascade Microtech/Prober/Karl Suss K&S PA200HS umfasst 4 Einheiten XYZ Prober Cascade Micro Positioner, Probearm und Proberhalter sowie Isolationstisch BESCHREIBUNG Das SÜSS PA200 Semiautomatic Probe System ist ein sehr stabiles, modulares und flexibles Sondensystem für Wafer und Substrate bis 200 mm (8). Das Standard-ProberBench®-Betriebssystem bietet Benutzerfreundlichkeit und …Baujahr: 2005
Baujahr: 2016
Baujahr: 2017
Baujahr:
Die NSX®-Wafer-Inspektionssysteme von Rudolph Technologies bieten einen hohen Durchsatz sowie eine wiederholbare Makro-Wafer-Defektinspektion für Defekte ab 0,5 Mikrometer. Makro-Wafer-Defekte können in verschiedenen Phasen der Halbleiterfertigung auftreten und sich erheblich auf die Qualität Ihrer mikroelektronischen Geräte auswirken. Das kostengünstige NSX 105 Wafer-Inspektionssystem von Rudolph Technologies erkennt schnell und präzise kritische Defekte und bietet neben wertvollen Prozessinformationen auch eine Qualitätssicherung. Das NSX …Baujahr: 2009
Zu verkaufen: 300mm Nass-Schleuder-Scheuersaugmaschine - Jahrgang: 2009 Hersteller: Bildschirm Modell: SS-3100 Produkt Unterkategorie: Halbleiter - Wafer-Ausrüstung Technischer Zustand: Gut Menge: 1 Jahr der Herstellung: 2009 Zusätzliche Anmerkungen: Verkauft wie besehen. Perfekt für die Halbleiterverarbeitung. Gebaut von Screen im Jahr 2009. Ideal für verschiedene industrielle Anwendungen.Baujahr:
SSEC CLEAN 3300 MODELL: M3302 208 VAC, 3PH, 60Hz, 30 AMP Herstellungsdatum: 8/30/05 AC Dwg Nr. 330i1712 1) der Wafer wird in das Lösungsmittelgemisch getaucht (sog. Tauchreinigung) 2) Es erfolgt eine Bearbeitung mit Sprühlösungsmitteln (sog. Fan Spray Processing) und eine Stickstofftrocknung. Die Anlage verfügt über ein sogenanntes Dry-in/Dry-out-System (trockene Wafer rein/ trockene Wafer raus). Die TSV-Reinigung nach dem DRIE-Ätzen ist …Baujahr:
SSEC Evergreen Serie II Photoresist-Wafer-Ätzer Zustand: Gebraucht Marke: SSEC Modell: Evergreen Serie II Enthält: (1) Gebrauchte SSEC Evergreen Serie II Photoresist Wafer Etcher Chemikalienlager Wafer-Transferkabinett Transfer-Kabinett Rostfreier Stahl Rückkühler X 2 Pumpe/Kühler Modell # LG.HPC Solid State Equipment (SSEC) Evergreen Serie II Modell 203 Photoresist Wafer Etcher garantiert vollständiges und komplettes System. Eingerichtet für 6"-Wafer. Zu verkaufen: SSEC Evergreen Serie …Baujahr:
Delta 80+ Fotolack-Beschichtungsanlage Gyrset-Beschichtungstechnologie mit geschlossenem Deckel Wafergröße bis zu 200 mm 2 Wafertec Fotoresist-Pumpen Lösungsmittelschrank (Aceton) Vollelektronischer Dispenserarm mit programmierbarer Geschwindigkeit, Zeit und Beschleunigung 2 Resist-Dosierlinien Option zur automatischen Reinigung der ResistdüseBaujahr:
Splitfield-Mikroskop Leica Objektive 3.5x/10x/20x 350W Lampenhaus mit Ushio USH-350DS Hg-Lampe UV400 Nah-UV-Optik, 350-450nm, 0.6um Auflösung 3"-Vakuum-Spannvorrichtung 3 "x3" Maskenhalter