Aspen II Dual ICP - Typ AGV Konfiguration : 1. Kassettenplattform : Kassettenrotation oder einteiliger Kassettenschacht 2. Abkühlkammer : Installiert, neuer Typ 3. Spalttür : Neuer Typ 4. Roboter-Baugruppe: Standard, neuer Typ 5. Kassettentür : AGV 26" 6. RF-Generator: AE /RFPP oder Adtec X 4 7. Heiz-/Kühlblock: Heizelement, neuer Typ mit kreisförmigem Rillenmuster oder Wasserkühlplatte mit Kühler 8. RF-Anpassungsbox: Trazar AMU 10D X 4 9. Gas: 3 Gase oder 4 Gase 10. Gaskasten : Neuer Typ 11. Rückseite EMO 12. Abkühlungskammer mit Hindge 13. Fernbedienungsschnittstelle. 14. Wafer auf Paddelsensoren installiert. 15. CE-konform Details Wafergröße: 4", 6" oder 8" konfigurierbar.
Angebot Titel: Alessi REL-4100 Prober mit Laserschneidsystem Hersteller: Alessi Modell: REL-4100 Technischer Zustand: Gut Merkmale: - Mitutoyo Mikroskop mit 1064nm gepulstem YAG-Laser - Ausgestattet mit einer 150mm Vakuum-Spannvorrichtung - Inklusive APO 10X Objektiv Dieser Alessi REL-4100 Prober wurde für Präzisionsanwendungen entwickelt und vereint fortschrittliche Laserschneidtechnologie mit zuverlässigen Abtastfunktionen. Dieses System ist ideal für verschiedene Industrie- und Forschungszwecke und befindet sich in einem guten technischen Zustand, der eine optimale Leistung für Ihre Bedürfnisse gewährleistet.
Titel des Angebots: Suss Microtec Delta 80 Beschichtungsmaschine Hersteller: Suss Modell: Microtec Delta 80 Technischer Zustand: Gut Beschichtungstechnologie: Gyrset Beschichtungstechnologie mit geschlossenem Deckel Kapazität der Wafergröße: Bis zu 200 mm Fotolackpumpen: 2 Wafertec Fotolackpumpen Lösungsmittel-Kabinett: Aceton Dosierarm: Vollelektronisch mit programmierbarer Geschwindigkeit, Zeit und Beschleunigung Resist-Dosierlinien: 2 Zusätzliche Merkmale: Automatische Reinigungsoption für die Resistdüse
Der RA 120M ermöglicht das Ritzen von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll (102 mm) und Substraten mit einer Größe von bis zu 4 Zoll (102 mm) im Quadrat. Zwei unabhängige Ritzachsen sind für maximale Vielseitigkeit separat programmierbar. Die Parameter können entweder in Mikron oder in Mils eingegeben werden. (Der Zoll- oder metrische Modus wird vor dem Einschalten durch Positionierung eines internen Modus-Jumpers ausgewählt). Die Dateneingabe erfolgt in Schritten von 1 Mikron im metrischen Modus und 0,1 mil in Zoll. Der RA 120M bietet drei verschiedene Ritzmodi und zwei separate Ritzachsen, so dass Sie die für Ihre Bedürfnisse am besten geeignete Konfiguration wählen können. Die Wahl hängt von der zu ritzenden Verbindung und dem speziellen Bauteiltyp ab, der auf dem Wafer oder Substrat hergestellt wird. Wenn das Programm für kontinuierliche Ritzungen gewählt wird, erzeugt der Ritzer eine ununterbrochene Ritzung über die gesamte Länge des Materials mit der beim Setup programmierten Tiefe. Im Modus "Edge Scribe" ritzt der RA 120M mit geringem Abstand zum Rand des Materials. Die Ritzlänge kann vom Bediener in 1-Mikrometer-Schritten zwischen 20 und 10.000 Mikrometern gewählt werden, wobei sich der Beginn des Ritzens immer auf die Materialkante bezieht. Nach Beendigung eines Ritzvorgangs wird der …
Größe der Waffel 1250 cm
SSEC 3302 Resistentfernungs- und Waferreinigungsmaschine Hersteller: Ssec Modell: M3302 Technischer Zustand: Gut Datum der Herstellung: August 30, 2005 Leistungsdaten: - Spannung: 208 VAC - Phase: 3PH - Frequenz: 60Hz - Stromstärke: 30 AMP Hauptmerkmale: 1. Reinigung durch Eintauchen: Der Wafer wird zur effektiven Reinigung in eine Mischung von Lösungsmitteln getaucht. 2. Fan Spray Verarbeitung: Die Verarbeitung umfasst das Aufsprühen von Lösungsmitteln, gefolgt von einer Stickstofftrocknungsphase. 3. Dry-in/Dry-out-System: Konzipiert für die effiziente Handhabung von trockenen Wafern in und aus dem System. 4. Proprietäre Einweich- und Sprühtechnologie: Minimiert die Sprühzeit und den Einsatz von Chemikalien, was zu niedrigeren Betriebskosten im Vergleich zu herkömmlichen Methoden führt. 5. Erhöhte Effizienz: Erzielt eine 100%ige Entfernung von Fotolack und Seitenwand-Fluorpolymer 5 Mal schneller als reine Sprühverfahren. 6. Software für gleichmäßiges Einweichen: Sorgt für eine präzise Prozesssteuerung, indem sie sicherstellt, dass jeder Wafer ausreichend in das erhitzte, rezirkulierende Lösungsmittel eintaucht. 7. Hochdruck-Sprühen: Entfernt schnell die verbleibenden Rückstände nach dem Einweichen und gewährleistet eine vollständige Reinigung. 8. Erhebliche Zeit- und Chemieeinsparungen: Das Einweich- und Sprühverfahren benötigt 88 % weniger Zeit und 77,5 % weniger Chemie als herkömmliche reine Sprühverfahren. Diese Maschine ist ideal für die TSV-Reinigung nach der DRIE-Ätzung, die für die Zuverlässigkeit von 2,5D- und 3D-IC-Bauteilen unerlässlich …
Versand Waffelhärteofen Typ D40B Zustand: Gebraucht Marke: Despatch Modell: Typ D40B Enthält: (1) Gebrauchter Despatch Waffelhärteofen Typ D40B Despatch Wafer Curing Oven zu verkaufen (gebraucht) MAX.BETRIEBSTEMP. 280 ͦ C Heizung Typ: Elektrisch LEYBOLD TRIVAC Vakuum Typ D40B FABR. Zu verkaufen: Despatch Wafer Curing Oven Typ D40B (Gebraucht). Verkauft "wie es ist, wo es ist". Wir haben nicht die Möglichkeit, alle Geräte zu testen. Dieses System wurde in funktionierendem, betriebsbereitem Zustand deinstalliert.
SSEC Evergreen Serie II Photoresist-Wafer-Ätzer Zustand: Gebraucht Marke: SSEC Modell: Evergreen Serie II Enthält: (1) Gebrauchte SSEC Evergreen Serie II Photoresist Wafer Etcher Chemikalienlager Wafer-Transferkabinett Transfer-Kabinett Rostfreier Stahl Rückkühler X 2 Pumpe/Kühler Modell # LG.HPC Solid State Equipment (SSEC) Evergreen Serie II Modell 203 Photoresist Wafer Etcher garantiert vollständiges und komplettes System. Eingerichtet für 6"-Wafer. Zu verkaufen: SSEC Evergreen Serie II Photoresist Wafer Etcher (gebraucht). Verkauft "wie es ist, wo es ist". Wir haben nicht die Möglichkeit, alle Geräte zu testen. Dieses System wurde in funktionstüchtigem, betriebsbereitem Zustand de-installiert. Artikel ist Fracht, müssen Sie ein Angebot für den Versand zu erhalten, kontaktieren Sie bitte für den Versand Details und Informationen auf Artikel Anfrage. (Posted Freight Quote ist sehr grobe Schätzung, Bitte erkundigen Sie sich über spezifischere / genaue Versandinformationen)
ECI-Technologie Quali-Dose Chemikaliendosiersystem Zustand: Gebraucht Enthält: ECI Technology Quali-Dose QD-300 Chemikaliendosiersystem Das Chemikaliendosiersystem wurde nie benutzt und sorgt für eine konstante Umgebung für Wafer. STROMBETRIEB 100-127 AC, 50/60 Hz 20A Größte Lasten 5A Praktische Steckdose 5,8 A Computer 3,5A (24 VDC-Stromversorgung) Kurzschlussfestigkeit 10k AIC Electric Genaue Konzentrationen der Galvanobadchemikalien werden durch präzise Dosierung der Nachfülllösungen aufrechterhalten. Kritische Komponenten im Bad werden nachgefüllt. Einfache Neukonfiguration für unterschiedliche Chemikalien (mehrere Chemikalien und Tankunterstützung). Verwendung für Fab oder PreFab. Positive Verdrängungspumpen ermöglichen eine hervorragende Leistung. Lösung für die Kontrolle von Borsäure. Kann für jeden Nassprozess verwendet werden. Kann mit NOWPak-Behältern verwendet werden. Ermöglicht flexible Dosieroptionen. Garantiert vollständig. Artikel ist frachtpflichtig: Sie benötigen ein Angebot für den Versand. Bitte kontaktieren Sie uns für Versanddetails und Informationen.
Produkttitel: SVG Dual Track Develop System Hersteller: SVG Modell: 8132 CTD/ 8136 HPO Zustand: Gebraucht Technischer Zustand: Gut Einrichtung: Ausgelegt für bis zu 6" Wafers Anmerkung: Verkauft wird "wie es ist, wo es ist". Das Gerät wurde in funktionstüchtigem, betriebsbereitem Zustand deinstalliert. Bitte beachten Sie, dass wir nicht die Möglichkeit haben, alle Geräte zu testen. Zustand: Sichtbar
Halbautomatisches Karl Suss PA-200-Sondensystem mit Karl Suss PH250HF-Sonden-XYZ-Kopf und -Arm sowie anderem Zubehör Karl Suss PA 200 mit Antivibrationstisch, einschließlich 3 Einheiten manueller Karl Suss-Hochfrequenz-Probenköpfe (PH250HF) mit Sondenarm und Sondenkopf sowie 1 Ersatzeinheit XYZ Edmund Optic Micro Positioners. BESCHREIBUNG Das SÜSS PA200 Semiautomatic Probe System ist ein sehr stabiles, modulares und flexibles Sondensystem für Wafer und Substrate bis 200 mm (8). Das Standard-ProberBench®-Betriebssystem bietet Benutzerfreundlichkeit und programmierte Automatisierung für die anspruchsvollsten Analyseanwendungen. Der modulare Aufbau ist effektiv, vielseitig und verfügt über einen definierten Upgrade-Pfad. FUNKTIONEN UND VORTEILE  Anwendungsflexibilität für Fehleranalyse, Design und Verifizierung, parametrische und funktionale Tests  Präzision und Stabilität für Submikron-Prüfungen  Platz für verpackte Teile und einzelne Chips sowie Wafer und Substrate  Konfigurationen für die Messung von Gleichstrom im attoAmpere-Bereich bis 220 GHz Hochfrequenz  Geräuscharme und frostfreie Messungen von –65 °C bis 400 °C mit dem SÜSS ProbeShield®  Schnittstellen zu führenden Analyseinstrumenten, Optiken, Software und Testern  ProberBench-Betriebssystem, voll funktionsfähig mit oder ohne PC  Umfangreiches Zubehör Einschließen: 1. Karl Süß Joystick-Controller und Netzteil, 2. Mitutoyo-Objektive und Okular, Mitutoyo-Mikroskop 3. Optem Fiber & Illuminator, 4. Basler Scout IR-Kamera 5. Thermochuck 6. Antivibrationstisch 7. Karl Süß manueller Hochfrequenz-Sondenkopf (PH250HF) – 3 Einheiten 8. Sondenarm …

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