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Baujahr:
Der RA 120M ermöglicht das Ritzen von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll (102 mm) und Substraten mit einer Größe von bis zu 4 Zoll (102 mm) im Quadrat. Zwei unabhängige Ritzachsen sind für maximale Vielseitigkeit separat programmierbar. Die Parameter können entweder in Mikron oder in Mils eingegeben werden. (Der Zoll- oder metrische Modus wird vor dem …Baujahr:
Halbautomatisches Karl Suss PA-200-Sondensystem mit Karl Suss PH250HF-Sonden-XYZ-Kopf und -Arm sowie anderem Zubehör Karl Suss PA 200 mit Antivibrationstisch, einschließlich 3 Einheiten manueller Karl Suss-Hochfrequenz-Probenköpfe (PH250HF) mit Sondenarm und Sondenkopf sowie 1 Ersatzeinheit XYZ Edmund Optic Micro Positioners. BESCHREIBUNG Das SÜSS PA200 Semiautomatic Probe System ist ein sehr stabiles, modulares und flexibles Sondensystem für Wafer und Substrate bis 200 mm …14.500 €
Malaysia
Baujahr:
Karl Suss/CASCADE MICROTECH PA-200HS Halbautomatisches Sondensystem mit komplettem Zubehör (optionales Upgrade für Temperaturmessung verfügbar) Cascade Microtech/Prober/Karl Suss K&S PA200HS umfasst 4 Einheiten XYZ Prober Cascade Micro Positioner, Probearm und Proberhalter sowie Isolationstisch BESCHREIBUNG Das SÜSS PA200 Semiautomatic Probe System ist ein sehr stabiles, modulares und flexibles Sondensystem für Wafer und Substrate bis 200 mm (8). Das Standard-ProberBench®-Betriebssystem bietet Benutzerfreundlichkeit und …15.500 €
Malaysia
Baujahr: 2005
Lasertec M-350H Wafer-Inspektions-/Review-System 300mm Jahrgang:2005 So wie es istPreis auf anfrage
Taiwan
Baujahr: 2016
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Singapur
Baujahr:
Aspen II Dual ICP - Typ AGV Konfiguration : 1. Kassettenplattform : Kassettenrotation oder einteiliger Kassettenschacht 2. Abkühlkammer : Installiert, neuer Typ 3. Spalttür : Neuer Typ 4. Roboter-Baugruppe: Standard, neuer Typ 5. Kassettentür : AGV 26" 6. RF-Generator: AE /RFPP oder Adtec X 4 7. Heiz-/Kühlblock: Heizelement, neuer Typ mit kreisförmigem Rillenmuster oder Wasserkühlplatte mit Kühler 8. RF-Anpassungsbox: Trazar …Preis auf anfrage
Taiwan
37.500 €
China
Baujahr: 2017
Preis auf anfrage
Singapur
Baujahr:
Die NSX®-Wafer-Inspektionssysteme von Rudolph Technologies bieten einen hohen Durchsatz sowie eine wiederholbare Makro-Wafer-Defektinspektion für Defekte ab 0,5 Mikrometer. Makro-Wafer-Defekte können in verschiedenen Phasen der Halbleiterfertigung auftreten und sich erheblich auf die Qualität Ihrer mikroelektronischen Geräte auswirken. Das kostengünstige NSX 105 Wafer-Inspektionssystem von Rudolph Technologies erkennt schnell und präzise kritische Defekte und bietet neben wertvollen Prozessinformationen auch eine Qualitätssicherung. Das NSX …Preis auf anfrage
Schweiz
Baujahr: 2009
Zu verkaufen: 300mm Nass-Schleuder-Scheuersaugmaschine - Jahrgang: 2009 Hersteller: Bildschirm Modell: SS-3100 Produkt Unterkategorie: Halbleiter - Wafer-Ausrüstung Technischer Zustand: Gut Menge: 1 Jahr der Herstellung: 2009 Zusätzliche Anmerkungen: Verkauft wie besehen. Perfekt für die Halbleiterverarbeitung. Gebaut von Screen im Jahr 2009. Ideal für verschiedene industrielle Anwendungen.Preis auf anfrage
Taiwan
Baujahr:
SSEC 3302 Resistentfernungs- und Waferreinigungsmaschine Hersteller: Ssec Modell: M3302 Technischer Zustand: Gut Datum der Herstellung: August 30, 2005 Leistungsdaten: - Spannung: 208 VAC - Phase: 3PH - Frequenz: 60Hz - Stromstärke: 30 AMP Hauptmerkmale: 1. Reinigung durch Eintauchen: Der Wafer wird zur effektiven Reinigung in eine Mischung von Lösungsmitteln getaucht. 2. Fan Spray Verarbeitung: Die Verarbeitung umfasst das Aufsprühen von …Baujahr:
SSEC Evergreen Serie II Photoresist-Wafer-Ätzer Zustand: Gebraucht Marke: SSEC Modell: Evergreen Serie II Enthält: (1) Gebrauchte SSEC Evergreen Serie II Photoresist Wafer Etcher Chemikalienlager Wafer-Transferkabinett Transfer-Kabinett Rostfreier Stahl Rückkühler X 2 Pumpe/Kühler Modell # LG.HPC Solid State Equipment (SSEC) Evergreen Serie II Modell 203 Photoresist Wafer Etcher garantiert vollständiges und komplettes System. Eingerichtet für 6"-Wafer. Zu verkaufen: SSEC Evergreen Serie …Baujahr:
Delta 80+ Fotolack-Beschichtungsanlage Gyrset-Beschichtungstechnologie mit geschlossenem Deckel Wafergröße bis zu 200 mm 2 Wafertec Fotoresist-Pumpen Lösungsmittelschrank (Aceton) Vollelektronischer Dispenserarm mit programmierbarer Geschwindigkeit, Zeit und Beschleunigung 2 Resist-Dosierlinien Option zur automatischen Reinigung der Resistdüse