AG Associates Heatpulse 8108 Schneller Wärmeprozessor

Baujahr: 1995

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Wärmepuls 8108 Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Original Equipment Hersteller: AG Associates Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: …

SPTS STS Multiplex ICP HRM

Baujahr: 2005

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: SPTS STS Multiplex ICP HRM Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: SPTS ,STS ,Surface Tech Sys Zustand: Vollständig überholt und vom …

Gasonics L3510 Plasma Asher Descum Halbleiter-Prozessausrüstung, Front-End.

Baujahr: 1995

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Gasonics L3510 Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Gasonics Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser Artikel ist nur …

SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Verfahren

Baujahr: 2005

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Prozess Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessausrüstung Original Equipment Hersteller: SPTS ,STS ,Surface Tech Sys Zustand: Vollständig überholt …

Gasonics Aura 2000LL Plasma Asher Descum Halbleiterprozessausrüstung, Front End.

Baujahr: 1995

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Gasonics Aura 2000LL Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Gasonics Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser Artikel ist …

MPT RTP-3000 Ausrüstung für schnelle thermische Verarbeitung

Baujahr: 1995

Modell: MPT RTP-3000 Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Original Equipment Hersteller: MPT Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.

AG Associates Heatpulse 4100 Schneller Wärmeprozessor

Baujahr: 1995

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Wärmepuls 4100 Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Hersteller der Originalausrüstung: AG Associates Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: …

SVG Coat Develop Track Modell 8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836

Baujahr:

SVG Coat Develop Track Modell #8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836 Kontaktieren Sie uns für Preise und Besichtigung. Die Ausrüstung ist derzeit im FAB installiert und kann auf Anfrage besichtigt werden. GERÄTETYP: Coat Develop Track HERSTELLER: SVG Modell: #8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836 Beschreibung: SVG 8826/8836 Serie Photoresist Coater und Entwickler (8800 Serie …

OXFORD Plasmalab 100 RIE Plasma Etcher Halbleiterprozessausrüstung, Front End.

Baujahr: 2004

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Oxford 100 RIE Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessanlagen, RIE Original Equipment Hersteller: Oxford,OXFORD Plasmalab Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser …

PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine

Baujahr: 2014

Das System Nano PLD-1000 ist ein voll integriertes Laserdepositionsgerät für mehrschichtige Schichten auf Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 2 Zoll. Es nutzt drei Energiequellen: den PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda-Laser, eine Magnetron-Streuungsquelle und die Veeco 3 cm Ionenquelle. Hauptkomponenten und Spezifikationen: Lasersystem: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda Excimer-Laser (248-nm, KrF) mit Ceramic Tube Technologie, bis zu 100Hz Wiederholgeschwindigkeit und …

TAZMO SOG STREICHMASCHINE CSX2132N

Baujahr:

TAZMO SOG TOOL MODELL: CSX2132N Dieses Gerät ist ein Durchlaufgerät für die SOG-Beschichtung bis zum Einbrennen, das die vollautomatische Bildung von Filmen auf 150 mm Substraten von Kassette zu Kassette ermöglicht. Dieses System, bei dem der Substrattransfer von einem Zweihandroboter durchgeführt wird, ist mit einem Standardbecher, einer Kühlplatte, drei Backplatten, einem Aligner, einem Kühlbereich, einem Vakuumtrockner und einem Hochtemperatur-Backofen mit …

SAVANNAH S200-ALD ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM

Baujahr: 2007

Modell: SAVANNAH S200-ALD ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM Kategorie: ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM ,Halbleiterprozessanlagen Original Equipment Hersteller: SAVANNAH,CAMBRIDGE NANOTECH , Veeco Cambridge Nanotech Ultratech Zustand: Komplett, funktionstüchtig und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.

Matrix 303, Matrix 302 Plasma-Ätzer für Halbleiter

Baujahr: 1995

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Matrix 303, Matrix 302 Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Matrix ,Matrix Integrierte Systeme, Inc Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer …

ULTRATECH SAVANNAH G2 ALD

Baujahr:

ULTRATECH SAVANNAH G2 Atomares Laser-Beschichtungssystem Spannungen: 100-120 VAC KVA: 1,5KVA-2KVA HERTZ: 50-60 Hz Die Savannah G2-Plattform umfasst eine breite Palette fortschrittlicher, vor Ort aufrüstbarer Optionen, die seriösen Forschern dabei helfen sollen, ihr Portfolio verfügbarer ALD-Schichten zu erweitern, und die es ihnen ermöglichen, die Schichten in Echtzeit zu charakterisieren. Zu den Optionen des Savannah G2 gehört ein einzigartiges System für die …

PlasmaLab 80 Plus PEVCD

Baujahr: 1996

Modell: PlasmaLab 80 Plus,PECVD Plasmalab 80+ DPCVD Kategorie: PECVD, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Oxford,PlasmaLab Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.

MRL Bandit 218-Ofen

Baujahr:

200mm LPCVD-Ofen Rohr 1: TEOS/Blech Rohr 2: Nitrid/Poly, Gasanschlüsse: Luft niedrig N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama Vakuumpumpen mit Gebläse Schumacher M-Dot Dotierstoffquellensteuerung Abmessungen des Ofens: 66x36x78 Gasmodul Abmaße: 18x36x78 Strombedarf: 480 V, max. 250 A

PlasmaTherm 790 RIE Plasma Etcher Halbleiterprozessanlagen, Front-End.

Baujahr: 1994

Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: PlasmaTherm 790 Kategorie: Plasma-Etcher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: PlasmaTherm Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser Artikel ist nur …

KOSES LASER-VERSIEGELUNGSGERÄT KLFS-201M KOS-01

Baujahr:

KOSES LASER-VERSIEGELUNGSGERÄT KLFS-201M KOS-01 Die Laser-Versiegelung ist das Verbinden des ersten Substrats und des zweiten Substrats Glas durch Laser-Bestrahlung auf der Fritte. Laser Sealing Machine Semi-Automatic ist durch die Auswahl Semi-Auto Benutzer kann ein bestimmtes Paket geeignet für kleine Produktionsanlagen gemacht wurden. Semi-Automatic System, um Operator Glas Engagement und Sealing Glas spucken. Beschreibung: Semi-Automatic System Ausrichtung für Prozesspunktpositionierung Laser-Verarbeitung Benutzeroberfläche …

COMELEC C-30-S Parylen-Beschichtungsanlage

Baujahr:

Kann nicht vollständig getestet werden Informationen: COMELEC C-30-S Parylen-Beschichtungsanlage Verkauft "AS IS, WHERE IS".

Branson/IPC 3000 Plasma-Ascher

Baujahr: 1987

Modell: Branson/IPC 3000,2000,4000 Serie Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Branson/IPC Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.