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Baujahr: 1995
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Gasonics L3510 Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Gasonics Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser Artikel ist nur …Baujahr: 1995
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Matrix 303, Matrix 302 Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Matrix ,Matrix Integrierte Systeme, Inc Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer …Baujahr: 1995
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Gasonics Aura 2000LL Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Gasonics Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser Artikel ist …Baujahr: 2005
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Prozess Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessausrüstung Original Equipment Hersteller: SPTS ,STS ,Surface Tech Sys Zustand: Vollständig überholt …Baujahr: 1987
Modell: Branson/IPC 3000,2000,4000 Serie Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Branson/IPC Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.Baujahr: 1995
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Wärmepuls 4100 Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Hersteller der Originalausrüstung: AG Associates Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: …Baujahr: 1995
Modell: JETFIRST 100 -RTP Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Original Equipment Hersteller: Jipelec Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.Baujahr: 1994
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: PlasmaTherm 790 Kategorie: Plasma-Etcher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: PlasmaTherm Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser Artikel ist nur …Baujahr: 1995
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: AST-Fass Asher Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: AST, Erweiterte Oberflächentechnologien INC Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser …Baujahr: 2000
AnnealSys AS-One Rapid Thermal Processor. Einheit verwendet wird. niedrige Stunde, saubere super Zustand. 4 Zoll. Rapid Thermal Processing Öfen für die Entwicklung von schnellen thermischen Glüh- und CVD-Prozessen Wafer Größe: Bis zu 4 Zoll. Modell: AnnealSys AS-One Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Original Equipment Hersteller: AnnealSys Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen …Baujahr: 2016
R&D Lasergravurplattform Marke 4 Jet, Jahr 2016 Perfekter Zustand. Maschine mit xy-Marmor und Steuercomputer ausgestattet. Achtung: ohne Laser (war mit Laser ROFIN powerline L 100 SHG bestückt) Das Set ist wie folgt: Abmessungen des industriellen Reinraumgehäuses 390x235x235 Numerisches Steuerungssystem mit Murmel zum Bewegen der x- und y-Achse THORLABS Steckbrett für die Anordnung des Strahlengangs Beckhoff-SPS max. Substratgröße zum Beladen 1100*1400mm, …Baujahr:
Modell: 600 Halbautomatisch - Halbautomatische RF-Plasmaanlage - Kann bis zu 200mm-Wafer bearbeiten - Wird zum Ablösen von Fotolack und zur Oberflächenreinigung sowie zum Ätzen von Silizium und dessen Verbindungen verwendet - Kammergröße: 245mm Durchmesser, 380mm Tiefe - Kammermaterial: Keramik - ENI RF-Generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz - Gase: 4 Kanäle, gesteuert durch 4 MFCs - Leybold D65B Vakuumpumpe - Abmessungen: …Baujahr: 2004
Alle Spezifikationen und Informationen können ohne Vorankündigung geändert werden und können nicht für den Kauf und die Einrichtungsplanung verwendet werden. Bitte überprüfen Sie die aktualisierten Informationen auf unserer Website vor dem Kauf. Wir danken Ihnen für Ihre Zeit. Modell: Oxford 100 RIE Kategorie: Plasma-Ätzer, Halbleiter-Prozessanlagen, RIE Original Equipment Hersteller: Oxford,OXFORD Plasmalab Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Gültigkeitsdauer: Dieser …Baujahr: 1985
Modell: Technics 2000, Technics PE-IIA Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Technics Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.Baujahr:
200mm LPCVD-Ofen Rohr 1: TEOS/Blech Rohr 2: Nitrid/Poly, Gasanschlüsse: Luft niedrig N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama Vakuumpumpen mit Gebläse Schumacher M-Dot Dotierstoffquellensteuerung Abmessungen des Ofens: 66x36x78 Gasmodul Abmaße: 18x36x78 Strombedarf: 480 V, max. 250 ABaujahr:
208v, 3 Phasen, 50/60hz, 20 Ampere Außergewöhnlicher Zustand: Quarzfass zeigt keine Anzeichen von Ätzung oder Gebrauch Seren 600-Watt-RF-Stromversorgung 13,56mhz Externer wandmontierter Stromverteilungs- und Schaltkasten mit EFOBaujahr:
Abmessung 3100 AFM X-Y-Abbildungsbereich ca. 90um im Quadrat Z-Bereich ca. 6um bis zu 150mm Probengröße nanoscope IIIa Steuerung Integrierter Tisch zur akustischen SchwingungsisolierungBaujahr:
ENI ACG10B 1200W Rf 13.56mhz Generator 2 angetriebene Regale Porter Masss Durchflussregler: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2