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Tepla 600-AL P240314075
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Tepla 600-AL Schneidemaschine - Plasma / gas Verifizierter Verkäufer

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Hersteller Tepla
Typ 600-AL
Baujahr
Standort USA US
Kategorie Halbleiter - Sonstiges
Produkt ID P240314075
Sprache
bg Машина за рязане - плазма / газ Tepla 600-AL
cs Řezačka plasmová / plynová Tepla 600-AL
da Tepla 600-AL Skæremaskine - Plasma/gas
de Tepla 600-AL Schneidemaschine - Plasma / gas
el Κοπτική μηχανή - Plasma / gas Tepla 600-AL
en Tepla 600-AL Plasma Asher
es Máquina de corte por plasma / gas Tepla 600-AL
fr Machine de découpe plasma / gaz Tepla 600-AL
hr Stroj za rezanje - plazma / plin Tepla 600-AL
hu Tepla 600-AL Vágógép - Plazma/gáz
it Impianto taglio plasma/ossitaglio Tepla 600-AL
lt Pjovimo mašina - Plazminė/dujinė Tepla 600-AL
nl Tepla 600-AL Snijmachine - Plasma/gas
pl Wycinarka plazmowa / gazowa Tepla 600-AL
pt Máquina de corte - Plasma / gás Tepla 600-AL
ro Mașină de tăiat - Plasmă/gaz Tepla 600-AL
ru Tepla 600-AL Станок для резки плазма / газ
sr Mašina za sečenje - plazma / gas Tepla 600-AL
sv Tepla 600-AL Skärmaskin - Plasma / gas
tr Kesim makinesi Tepla 600-AL

Detaillierte Informationen

-------------------
Länge x Breite x Höhe 740,0 × 624,0 × 701,0
Betriebsstunden
Einschaltstunden
zustand gut
CE-Norm ---------
Status
Letztes Verfügbarkeitsdatum 05/02/2026

Automatische Beschreibung (KI-generiert)

Der Tepla 600-AL ist ein halbautomatisches RF-Plasmasystem, das für halbleiterverarbeitende Anwendungen entwickelt wurde. Es kann Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm handhaben und eignet sich somit für das Entfernen von Fotolack, die Oberflächenreinigung und das Ätzen von Silizium und dessen Verbindungen. Das System verfügt über eine keramische Kammer mit einem Durchmesser von 245 mm und einer Tiefe von 380 mm, die eine kontrollierte Umgebung für die Plasmabehandlung bietet.

Dieses Modell ist mit einem ENI RF-Generator ausgestattet, der bis zu 600 Watt bei einer Frequenz von 13,56 MHz liefert. Es umfasst vier Gaskanäle, die jeweils durch einzelne Massendurchflussregler (MFCs) gesteuert werden, was eine präzise Kontrolle der Prozessgase ermöglicht. Das Vakuumsystem wird von einer Leybold D65B-Vakuumpumpe unterstützt.

Die äußeren Abmessungen der Maschine betragen 740 mm Länge, 624 mm Breite und 701 mm Höhe, ohne Anschlüsse. Der Betrieb erfolgt mit einer elektrischen Versorgung von 230 V bei einem Stromverbrauch von 2 kW und einem Strom von 15 A bei 50/60 Hz.

Das Bedienfeld ist mit einem Bildschirm und mehreren Tasten, einschließlich einer Notaustaste, ausgestattet, was die Benutzerinteraktion und Sicherheit erleichtert. Auf der linken Seite des oberen Panels befindet sich ein rundes Fenster, und der untere Abschnitt verfügt über zwei Fächer, von denen eines offen ist und interne Komponenten wie Verkabelung und Kabel zeigt. Das Rückpanel enthält mehrere Anschlüsse und Steckverbinder, darunter Koaxial- und serielle Anschlüsse sowie zwei große runde Lüftungskanäle im oberen Bereich.

Die Maschine erscheint sauber und gut gewartet, ohne sichtbare Schäden oder Abnutzungen an den äußeren Paneelen. Dieses Tepla 600-AL System bietet eine umfassende Lösung für die Plasmaverarbeitung von Halbleitern mit benutzerfreundlicher Steuerung und zugänglichen internen Komponenten.

Die folgende Beschreibung wurde mithilfe künstlicher Intelligenz auf Basis der verfügbaren Produktinformationen erstellt. Sie dient lediglich der Orientierung und spiegelt möglicherweise nicht alle Spezifikationen oder Bedingungen wider. Bitte kontaktieren Sie uns, falls Sie genaue oder bestätigte Details benötigen.

Beschreibung des Verkäufers

Modell: 600 Halbautomatisch
- Halbautomatische RF-Plasmaanlage
- Kann bis zu 200mm-Wafer bearbeiten
- Wird zum Ablösen von Fotolack und zur Oberflächenreinigung sowie zum Ätzen von Silizium und dessen Verbindungen verwendet
- Kammergröße: 245mm Durchmesser, 380mm Tiefe
- Kammermaterial: Keramik
- ENI RF-Generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz
- Gase: 4 Kanäle, gesteuert durch 4 MFCs
- Leybold D65B Vakuumpumpe
- Abmessungen: 740mm x 624mm x 701mm + Anschlüsse
- Elektrisch: 230V, 50/60Hz, 15A, 2kW
- 1731 Stunden

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.


Art von Kunde Maschinenhändler
1. Registrierung 2019
Online Angeboten 60
Letzte log in 13. Februar 2026

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Modell: 600 Halbautomatisch
- Halbautomatische RF-Plasmaanlage
- Kann bis zu 200mm-Wafer bearbeiten
- Wird zum Ablösen von Fotolack und zur Oberflächenreinigung sowie zum Ätzen von Silizium und dessen Verbindungen verwendet
- Kammergröße: 245mm Durchmesser, 380mm Tiefe
- Kammermaterial: Keramik
- ENI RF-Generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz
- Gase: 4 Kanäle, gesteuert durch 4 MFCs
- Leybold D65B Vakuumpumpe
- Abmessungen: 740mm x 624mm x 701mm + Anschlüsse
- Elektrisch: 230V, 50/60Hz, 15A, 2kW
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Länge x Breite x Höhe 740,0 × 624,0 × 701,0
Betriebsstunden
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Letztes Verfügbarkeitsdatum 05/02/2026

Automatische Beschreibung (KI-generiert)

Der Tepla 600-AL ist ein halbautomatisches RF-Plasmasystem, das für halbleiterverarbeitende Anwendungen entwickelt wurde. Es kann Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm handhaben und eignet sich somit für das Entfernen von Fotolack, die Oberflächenreinigung und das Ätzen von Silizium und dessen Verbindungen. Das System verfügt über eine keramische Kammer mit einem Durchmesser von 245 mm und einer Tiefe von 380 mm, die eine kontrollierte Umgebung für die Plasmabehandlung bietet.

Dieses Modell ist mit einem ENI RF-Generator ausgestattet, der bis zu 600 Watt bei einer Frequenz von 13,56 MHz liefert. Es umfasst vier Gaskanäle, die jeweils durch einzelne Massendurchflussregler (MFCs) gesteuert werden, was eine präzise Kontrolle der Prozessgase ermöglicht. Das Vakuumsystem wird von einer Leybold D65B-Vakuumpumpe unterstützt.

Die äußeren Abmessungen der Maschine betragen 740 mm Länge, 624 mm Breite und 701 mm Höhe, ohne Anschlüsse. Der Betrieb erfolgt mit einer elektrischen Versorgung von 230 V bei einem Stromverbrauch von 2 kW und einem Strom von 15 A bei 50/60 Hz.

Das Bedienfeld ist mit einem Bildschirm und mehreren Tasten, einschließlich einer Notaustaste, ausgestattet, was die Benutzerinteraktion und Sicherheit erleichtert. Auf der linken Seite des oberen Panels befindet sich ein rundes Fenster, und der untere Abschnitt verfügt über zwei Fächer, von denen eines offen ist und interne Komponenten wie Verkabelung und Kabel zeigt. Das Rückpanel enthält mehrere Anschlüsse und Steckverbinder, darunter Koaxial- und serielle Anschlüsse sowie zwei große runde Lüftungskanäle im oberen Bereich.

Die Maschine erscheint sauber und gut gewartet, ohne sichtbare Schäden oder Abnutzungen an den äußeren Paneelen. Dieses Tepla 600-AL System bietet eine umfassende Lösung für die Plasmaverarbeitung von Halbleitern mit benutzerfreundlicher Steuerung und zugänglichen internen Komponenten.

Die folgende Beschreibung wurde mithilfe künstlicher Intelligenz auf Basis der verfügbaren Produktinformationen erstellt. Sie dient lediglich der Orientierung und spiegelt möglicherweise nicht alle Spezifikationen oder Bedingungen wider. Bitte kontaktieren Sie uns, falls Sie genaue oder bestätigte Details benötigen.

Bezüglich der/die Besitzer /in

Art von Kunde Maschinenhändler
1. Registrierung 2019
Online Angeboten 60
Letzte log in 13. Februar 2026

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Tepla 600-AL Schneidemaschine - Plasma / gas